真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結構簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數研究性實(shí)驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要動(dòng)能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著(zhù)性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點(diǎn)是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強的附著(zhù)力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
pet金膜具有透明度好、韌性好、耐沖擊、耐腐蝕、水蒸氣透過(guò)率低等特點(diǎn)。制作成標簽后能展現優(yōu)良的印刷效果。
而且起到防潮、防霉、防銹、防污染、防破損和防盜等等作用。而且它的包裝工藝和設備比較便利，便于實(shí)行自動(dòng)化熱縮包裝。
廣泛應用于消毒餐具、電子電器、日用品、工藝品、酒品，食品、運動(dòng)用品、保建品、文具、玩具、門(mén)戶(hù)、塑膠五金、玻璃陶瓷等等各類(lèi)商品的包裝，使包裝外形更加的鮮明美觀(guān)，可以提高產(chǎn)品包裝檔次。
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